CTAB模板介孔硅技术（CTAB-Templated Mesoporous Silica Technology）

CTAB（十六烷基三甲基溴化铵）是常用阳离子表面活性剂，可作为软模板合成介孔硅材料，如MCM-41和SBA-15。

合成步骤：

模板图片剂溶解完：CTAB不溶酸碱性水硫酸铜溶液（如NaOH或NH₄OH设定pH至10-11）；硅源加入到：在CTAB胶束制度中慢慢滴入硅源（如TEOS，四乙氧基硅烷）；溶解缩合：TEOS在含碱前提发布生溶解缩合，在CTAB设计加以引导下组成充分硅氧电脑网络；退化与干固：一般性在80–100°C下反映24每小时；消除模具：借助煅烧（550°C）或醇/磷化法移除CTAB，荣获介孔结构类型。

材料特征：

内径宏观调控：普通为2–10 nm，可可以通过加进外挂模板制作剂（如TMB）扩张内径；比表面上积：500–1200 m²/g；安全有序孔道节构：突显六方不对称顺序排列。

应用方向：

抗癫痫药物控释膜蛋白；金属制奈米激光束媒体；催化的作用剂支持力素材；荧光电极二极管封装指标体系。

 

产地：西安杏彩体育平台 生物

用途：科研 

以上资料由杏彩体育平台 生物小编zhn提供，仅用于科研 

相关产品：     

PLGA2K-TK-PEG2K-FAN3-PEG5K-NHSPLGA5000-TK-PEG5000-NHSNH2-PEG3-BiotinPLL(20)-g-[3.5]-PEG(2)/PEG(3.4)-biotin(50%)(PLL-g-PEG-biotin)MOF&1,3,6,8-Tetrabromopyrene,CAS128-63-2MOF&2,3,6,7,10,11-Hexabromotriphenylene,CAS82632-80-2羧基化绿荧光PS微球，100nm