氧化锆YSZ单晶基片 <100><110><111>取向
腐蚀锆(ZrO2) 原因ZrO2多晶硅体体需掺进钇(Y)以维持其框架,通常其实在使用的是YSZ多晶硅体体一下载钇维持剂(水分含量约19%)的腐蚀锆多晶硅体体。它机械性、耐腐蚀维持性好,价格多少较低而能才能很广操作。