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基于直接生长Ag纳米线阵列微腔的等离激元结构色材料及制备技术
发布时间：2020-08-28     作者：harry   分享到：
人工客服合金金属微纳框架是所产生等离激元框架色的产品的载体。目前为止为摸板法或微纳生产制造(光刻、化合物束直写、化合物束刻蚀或nm印压等)法律手段的等离激元框架色的产品开发遭遇到瓶颈期，基本是化学合成图纸体积小，向下ibms型性能不很好，化学合成材质人工成本高等专科学校，新的系统产品开发逐步推进。至少就一直发育法来整合等离基元框架色是有期待的新一波的人的系统，它除了能达成大体积化学合成，另外要能达成材质的向下ibms型发育。就一直发育法是释放了摸板法和微纳生产制造艺的拘束，可全有机化，表层的品质高，跟CMOS艺和材质系统选购相兼容，ibms型时极易达成有源化，为等离激元技术性反应打造低层的保障。



中国科学院宁波材料技术与工程研究所曹鸿涛、高俊华和合作者针对这一问题，利用金属和陶瓷共溅射生长技术，制备了金属纳米线阵列/陶瓷复合超材料薄膜，纳米线阵列的特征几何尺寸可按需定制。由于贵金属/电介质界面数量巨大，从而引发了丰富的等离激元效应(金属/电介质界面处电磁波与自由电子耦合产生共振)；另外，区别于传统的开放式结构(如微纳加工制备的纳米孔、柱、锥等)，贵金属/电介质界面不与空气接触，是封闭式的等离激元微纳结构，客观上为显色稳定性和耐久性提供了结构保障。在此基础上，以复合超材料薄膜层为Building block，构建了透明衬底/ Building block layer/超薄介质gap层/金属镜面层的等离激元结构色膜系结构。通过制备参数作用下的材料微结构调控，在CMYK色坐标下实现了蓝绿、黄和品红基础色。同样地，在RGB色坐标下，实现了包含红绿蓝三基色以外的丰富的颜色，反射式显色对角度不敏感，甚至可构建超黑吸收。所制备的样品在大气环境下放置一年后，无论是颜色外观还是显色光谱均保持稳定。通过光学理论模拟结合高通量样品制备和参数提取，结果表明，新型等离激元结构显色源于纳米微腔的多模、多阶驻波的形成，通过调控等离激元微纳结构参数和横向等离激元共振模间的电磁耦合，在可见光波段形成选频吸收进而产生反射式显色。该研究所涉及的结构色膜系，在一个磁控溅射腔体中和室温条件下逐层沉积，衬底选择自由度高(可刚可柔，可导电可绝缘)，样品幅面可达10 cm ×10 cm，鉴于磁控溅射沉积设备是半导体、光学膜工业常用的成熟装置，其制备技术有望进行工业放大，利于加速推动等离激元材料的应用开发进程。相关结果发表在Advanced Functional Materials（DOI: 10.1002/adfm.202002287）上。