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光电材料|双轴拉伸应变对fe掺杂GaN单层膜结构和光电性能的影响
发布时间:2022-02-16     作者:光电材料   分享到:

在双轴拉长应变力为0% ~ 5%的必要条件下,因为体积密度泛函实际系统化确定了掺铁二维GaN的型成能、还能带格局、介电指数方程、吸收能力指数、折射率指数和材料耗费指数方程,并具体分折了带隙转化的机制。


結果证明,随之双轴剪切运动应力应变速率的增强,Fe-N和Ga-N的键长呈线形增长,带隙呈分批波动。結果证明,二维GaN: Fe都是种可以带隙半导体技术,其带隙业务类型没受双轴剪切运动应力应变速率的反应。


未应对力2D GaN: Fe的静止相对相对介电常数为28.6,渐渐双轴拉伸形变运动应对力的不断增加,2D GaN: Fe的相对相对介电常数过大,应响2D GaN的电势储存方式数量:渐渐应对力的过大,Fe强化,附生电解电容过大,汲取因子、反射率和耗损率数学函数的基线过大,意味着双轴拉伸形变运动应对力会较为严重的应响二维GaN: Fe的磁学性。

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