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酞菁|氧等离子体诱导界面CoOx/酞菁钴双功能电催化剂的含氧反应
发布时间:2022-02-10     作者:酞菁   分享到:

酞菁钴(CoPc)的材料作含氧电催化氧化反应剂已被很广的开发,但其一直以来有催化氧化反应吸附性一直以来偏差。

大家提起好几个种表面上氧等阴阳离子体方案来直接性治理 CoPc以造成统一在CoPc上的程序界面CoOx纳米技术点(CoOx/CoPc),它对氧展现体现(ORR)和氧形成体现(OER)都表現出较高的几丁质酶。

简化后的CoOx/CoPc在酸碱度材质中对ORR的半波电极电位为0.63 V,最低值电子技术改变数为3.64,而CoPc为0.59 V, n = 2.37。

除此以外,CoOx/CoPc的OER耐磨性也取到了**从而提高,在0.49 V的过电极电位下,其交流电硬度为22.2 mA cm−2,是CoPc (0.6 mA cm−2)的36倍。

论述察觉,CoOx/CoPc性能参数的提高了包括是犹豫其含有较高的电耐腐蚀可溶性表面层积、较高的CoOx可溶性并且抱负的程序界面节构。

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