理论研究了无金属件(2)、ClGa(3)和Co(4)四(4-乙酰氨基苯氧基)酞菁在铝- hcl悬浊液软件界面上的缓蚀性能方面和气体吸附行为表现。电化学分析反应技能适用于探究，并加上傅里叶调整红外，扫描软件手机显微镜和xx射线衍射校正。电势信息极化技术应用在28℃时，在高达**剂酸度(10µM)下的缓蚀生产率分別为93.3%(2)、69.7%(3)和87.7%(4)，按顺序为2 >4比;3.某些单质算作结合型脱硫剂含有非常好的缓蚀稳定性。所有的APP工艺的数据都确认了这一點。

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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化反应硅包裹菁纺织染料壳核型納米颗粒物

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