光电材料|利用H+、He+和N+离子束注入改性新型光电材料GaN
后向漫射光谱法和沟道法探索了氮化镓的形式和晶胞质量水平。通过材料-有机物色谱外加法在蓝黄宝石上植物的生长。将不相同阳离子电量和用药量的H+、He+、N+加入GaN中。对殖入后移火展开了科学研究。确认霍尔測量,咱们感觉既定温差渗碳后电阻值率多了7-3个规模级,H+、He+和N+的优化提升渗碳温差不同约为200-400℃。就是在600-700℃退火处理后,热敏电阻率仍会很高。自己来说,氮化镓样板的电阻器率变幻是由空位和植入式的有害性挫裂伤产生的。
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meso-四(对烷氧基苯基)卟啉钼配合物
塑炼铅固载四(对-羧基苯基)铁卟啉催化剂的作用材料(FeTCPP/PbS)
cas:108443-61-4|四羧基苯基卟啉钴|TCPP-(Co2+)
原卟啉 IX 二甲酯,CAS号:5522-66-7
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