拓扑结构瑕疵对游离态基H2Pc和两者3d金属材料双重性物（CuPc和ZnPc）与纳米材料薄片三维模型共同效果的整合抗拉强度、几何式外观和光电规格的影向。

将内含孤立无援五边形（5）、吡啶基（5665）和Stone-Wales （SW）一些缺陷的聚类算法模板与无一些缺陷的石墨稀模板（G）的DFT计算的可是对其进行了对比。

纳米材料外面的拓扑关系组成对大部分为空间图形的酞菁碳原子的样式形态有过强的应响。

在原始和含SW缺陷的模型上，石墨烯大环总体上保持平坦，但在大多数情况下，孤立的五边形缺陷和吡喃基单元的存在会导致酞菁体系的强烈畸变，从而增加其与石墨烯片的接触面积。

所以作为了两者混合物间更**的π-π堆砌功能。

在扇形5和5665nm团簇的实际情况下，“endo”离心分离剂的经济环突变比“exo”离心分离剂的经济环突变更看不出;反往回，5665机型的曲度更阴茎疱疹，更强。

拥有探讨的结合物的非共价键都比较强，按5665_exo ＆lt;5_exo ＆lt;5665_endo ＆lt;G ＆ lt;江南。

太多推存：

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化反应硅围绕菁颜料壳核型微米顆粒

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