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光电材料|Bi3+掺杂对ZnO薄膜微观结构和光电性能的影响
发布时间:2021-12-28     作者:光电材料   分享到:

采用溶胶-凝胶旋涂技术成功地制备了光电材料铋掺杂ZnO (BZO)薄膜。

所采用扫描器光学光学体视显微镜(SEM)、动能散射光谱仪(EDS)、散射光学光学体视显微镜(TEM)、选泽性地区光学衍射(SAED)水平和光致会亮(PL)研究方案了浓硫酸浓度对pe膜微电子性能参数的会影响。

结果表明,成功将光电材料Bi3+掺杂到ZnO晶格中可以产生更多的光致载流子。

随着掺杂率的增加,薄膜的晶粒尺寸减小。1% Bi3+掺杂BZO薄膜的光电流比纯光电材料ZnO薄膜高25%。

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