酞菁包括奇特的吸出和光敏特征，是一个种很有发展前景的光催化剂氧化用料。

本文制备了三个以Al3+和Co2+离子为中心金属的酞菁（Pcs）衍生物，并将其吸附在MOFs基体上。

研究方案了亚甲基蓝（MB）和甲基橙（MO）以及其比调物在看不见光下的光促使可降解性能指标。

NH2-MIL-125、Al-PcCl@NH2-MIL-125、CoPc@NH2-MIL-125和CoPcPA@NH2-MIL-125的催化剂的作用剂吸附率各分为为0.01、0.012、0.035和0.046 min−1 MB，而MO的吸附率各分为为0.021、0.027、0.052和0.082。

最让人惊愕的是，在MO现实存在下，MB的光促使光化学降解传输速度的提升，光化学降解传输速度各为0.066、0.069、0.085和0.120 min−1。

本的研究说了解多孔mof材料料仅仅看作一个各种载体，同时还看作一个微电子感觉的性能卓越参数，提升 了光稳定可靠性和催化氧化反应活性氧。

更加推存：

cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化反应硅围绕菁有机染料壳核型納米颗粒物

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