多面体低聚倍半硅氧烷(polyhedraloligosils-esquioxane,POSS)格局所示1随时,它由硅酸硅氧笼型空间结构和核外的无机基团R构造,R为加快相溶性与增溶使用的生物碳基团,X为含很几个或几个可体验汇聚反馈的活性酶基团。有机会有机物杂化组成部分使POSS的供热公司学和药剂学物理性质都得到了改善,更具正常的热稳固性、较高的波璃化塑造水温、正常的地方稳固性和自动化机械性能，适于能力化表达，将其当作核,建立密度比较大的侧基后,可使用配制光刻胶板材。包含的POSS基团的光刻胶，板材抗蚀刻性愈来愈强。

POSS光刻胶的最主要的的类型

树脂POSS光刻胶

将树脂环己基和接入到POSS上(如图已知2右图)，光催化原理了一大种负性光刻胶,下载光产酸剂( photoacid generator,PAG),运用涉及光刻技术设备，经两束光波波长为532 nm的干涉仪光曝出后,氯化橡胶漆基团.

受酸促使之后发生交连不起作用,经后烘、显影液等操作过程，赚取了辨认比率300 nm、深宽之比10的原型,具体的工作如下图所示3图示

甲基水性聚氨酯酯-POSS光刻胶

甲基亚克力酯类缔合物主要是因为良好的的透明化性,常被重复使用193 nm光刻胶原材料，而POSS基团在193nm处是没有降解,对此探索者将POSS基团传输到甲基丙稀酸酯的共聚物中,以不断提高光刻胶的耐蚀刻性,

重氮酮-POSS光刻胶

本身非化学反应增长速度型的正性光刻胶-重氮酮官能化的POSS。自己将POSS插进到重氮酮单质中以减弱光刻胶的热比较稳明确和力学性性能指标,用重氮酮官能团在红外光谱灯灯照公布生Wolff重排,绘制这个羧基基团,而使改动了水解度。获得路经如如图所示如图是。CDEOPE POSS经深紫外线光曝出后,不用办理后烘，就能够才能得到判定比率为0.7 μm的空间图形

POSS享有安全的纳米级笼形的结构,该用作.光致抗蚀剂的加强文件。内含POSS组成部分的光刻胶都具有优秀的热固确定分析、的空间和组成部分固确定分析及严重的抗等铝离子蚀刻效果等独到之处,故而,POSS改性建筑材料的整合物建筑材料在光刻胶层面中兼具更好的用未来发展。

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