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通过CVD方法生长出高度结晶的多层二硫化钼(MoS2)薄片(图文介绍)
发布时间:2021-08-17     作者:axc   分享到:
依据CVD做法生形成角度沉淀的小高层二混炼钼(MoS2)薄片(图案解绍)

具有本征带隙的二维MoS2由于其在电子和光电子器件方面的潜力而引起了科研学着关注。 但是,由于这种材料的迁移率相对较低(甚至低于多晶硅),这大大地阻碍了其迈向实际应用。目前已经有一系列针对单层MoS2的研究,但是与此同时多层MoS2的研究相应的有所缺失。然而实际上,由于具有较高的态密度,多层MoS2具有比单层MoS2高得多的迁移率和驱动电流,这使得多层MoS2在薄膜晶体管、逻辑器件和传感器等方面更具应用前景。 然而,到目前为止报道的多层MoS2的**性能是通过机械剥离获得的,这并不适合实际应用,而目前化学气相沉积(CVD)合成的多晶多层MoS2薄膜,显示出低得多的迁移率。

为了推进多层为了推进多层MoS2的实际应用,我们通过CVD方法生长出高度结晶的多层MoS2薄片解决了上述问题。可以实现高达20层的MoS2以良好限定的AA顺序堆叠在一起,而且每层的边缘是原子级平滑的Mo原子锯齿形结构。多层沟道、原子级有序的边缘以及理想的接触几何形状使得这些CVD生长的多层MoS2薄片表现出优于机械剥离多层MoS2的电性能。除了场效应晶体管之外,这些多层MoS2晶体管也适合于构建基于单层-多层MoS2结的整流二极管。

【图文简介】

图1 合并其他柱高的MoS2薄片

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a)利用桥拱防氧化Mo箔用作反应迟钝前体CVD衍生MoS2的提示图。b)植物的生长产品的大规格光学薄膜画面,屏幕上显示了15-20层MoS2MoS2的植物的生长,产出率≈70%,身材比例尺:50μm。c-f)CVD生长期的双层结构、5层、8层或17层MoS2薄片的光学仪器彩色图像。g,h)12层MoS2的光学元件图片并且 AFM图片,中间MoS2兼备≈20μm的每边。i)所显示的是g)中MoS2打样定制的拉曼mapping 图形,其含有在404cm -1处的峰。j) 该MoS2样板的PL mapping 画像,其基线在1.80eV峰处。c-j)中的标准尺均为5μm。


图2 CVD生长MoS2薄片的层依赖光谱表征

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a) 分开是1,2,3,4,6,9和10层MoS2的光学反应形象。基数尺:5μm。b-d)分开 代表a)中MoS2薄片的拉曼、PL和SHG谱。e)E2g1、A1g拉曼形式 的层依靠感频点和性别差异。f)层依靠感性PL峰地点和难度。g)层依靠感性SHG强。


图3 实验制备的多层MoS2的TEM和STEM表征结果

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a)浮窗在多孔碳TEM网格上的CVD的生长的多层高层MoS2薄片TEM图片。分配比例尺:1μm。在a)下图很多层MoS2上符号的1和3的SAED形象对应如b)图和c)图如图所示。d)STEM-HAADF形象文件和e)其它个很多层MoS2薄片(补足新信息)1-2层边缘处的摸拟形象文件。紫色和黄绿色球对应说Mo和S共价键。比倒尺:1nm。f)从左到右主要是1至8层MoS2的STEM-HAADF仿真画像。配比尺:1nm。g)AA堆叠的多层高层MoS2的氧原子结构类型结构类型。面内Mo-S键的的方向相同之处,上层的S氧原子结构类型与底部的六角形咨询中心重重叠叠。


图4 CVD发展的多层高层MoS2薄片的电学特性

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a,b)多层电路板机械设备分离MoS2和CVD生长期的MoS2薄电影片段的电学玩多少性状的关心图。c)在1V的偏压下16层MoS2的Ids-Vgs基本特征。图文并茂:在40V的栅极输出功率下的Ids-Vds等值线相应元器件封装的光纤激光切割机的图面。数量尺:5μm。d)栅极电流为0V时量测的1-8层MoS2结的Ids-Vds性能。插图图片:元器件封装的光学元件彩色图像。基数尺:5μm。楼层依懒的e)光电搬迁率和f)Vgs=40V和Vds=1V时交流电校正值的分析数据资料,里面鲜红色柱代表CVD发展的MoS2薄片,粉色柱代表机械厂脱离的MoS2薄片。

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CVD-MoSe2连续薄膜

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CVD-GaSe三角形单晶

CVD-GaSe三角形晶体

CVD-WS2多层薄膜

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CVD-PdS2薄膜

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CVD-WSe2 全覆盖连续薄膜

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CVD-一步转移法单层氮化硼薄膜

CVD-SiO2/Si衬底单层氮化硼薄膜

CVD-铜基单层氮化硼薄膜

硅基氮化硼/石墨烯异质结

CVD-PdS2薄膜

CVD-多层氮化硼BN薄膜

CVD-硅基单层氮化硼BN薄膜

CVD-少层氮化硼BN薄膜

CVD-WS2-WSe2面内异质结

CVD-MoS2xSe2(1-x)合金单晶

CVD-PtSe2单层薄膜

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CVD-SnSe2单层薄膜

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B相二氧化钒VO2单晶薄膜

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